センター長挨拶

                                      機器分析センター長 石丸 学

 本年4月から機器分析センター長を拝命しました。これから2年間、宜しくお願い致します。
 ご存じとは思いますが、機器分析センターは「各種の高性能大型分析機器を共同利用することにより研究及び教育上の利便を図るとともに、分析技術の研究、開発を行なう目的」で、平成5年4月に設置され、既に20年以上が経過しております。その間に、新しい分析機器の導入や老朽化した装置の更新を行ってきました。しかしながら、最近では概算要求での大型装置の更新が難しく、平成25年度概算要求により最新鋭の核磁気共鳴分光装置、X線回折装置、質量分析計が導入されたのを最後に、装置の更新や導入がなされていません。透過電子顕微鏡、集束イオンビーム加工装置、ICP発光分光分析装置は、導入当時は高性能の分析機器・加工機器として活躍しておりましたが老朽化が著しく、早急に更新すべき状態です。これについては、今後も装置の更新を粘り強く働きかけていく所存であります。そのためには、装置の稼働率を上げる必要が御座います。ユーザーフレンドリーな装置に関しては、自身での測定が出来るようになるべく開放していきたいと考えております。本学教職員や学生のみならず、学外の方も是非、本センターの装置をご活用頂きたいと思います。
 機器分析センターでは、センター次長(大坪文隆准教授)が全般をカバーしながら、事務補佐員1名及び装置専任の職員6名が配置されています。分析に際しては技術職員の方に是非ご相談頂きたいと思います。これにより、装置の管理者と使用者の意思疎通が図られるとともに、技術の向上に役立てることが出来ると考えられます。どうぞ、皆様のご支援とご協力をお願い申し上げます。

2016年4月