微小部分析 光電子分光分析装置
        (島津/KRATOS AXIS-HS)

                                              設置場所:旧SVBL 担当者:武尾政俊
分析できること
金属、半導体、セラミックス、触媒、高分子、繊維などの各種材料及び薄膜試料について、極表面層の元素分析や状態分析ができます。また光電子像の測定やアルゴンイオンエッチングにより深さ方向の分析も可能です。

分析原理
超高真空中で試料原子が特定のエネルギーのX線で照射された時、光電効果により光電子が放出されます。この光電子のエネルギーは各元素で固有の値を持つものであるため、このエネルギーを測定し解析することで元素の同定、化合物の推定、元素の結合状態などの情報が得られます。

分析試料
本装置による分析法は超高真空下で行うため、揮発成分を含む試料や昇華性の高い物質の測定は出来ません。
また、試料台の大きさに制限があるため、直径15mm以下、厚さ4mm以下の試料を用意して下さい。なお粉末試料の測定も出来ます。

分析の注意点
基本的にはユーザーが分析操作を行うことになります。試料の取り付け、分析室への試料の移動などバルブの開閉が必要になりますが、このバルブの殆どが手動であり、この操作を誤るとトラブルが発生するため、装置の概要、特に真空系について熟知する必要があります。